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PECVD系统配置:1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统(可选配中真空或高真空)
查看详细介绍PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
查看详细介绍PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G
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